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衍射光栅加工
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光栅及超结构加工
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氮化硅光波导
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铌酸锂光波导加工
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硅光波导
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混合键合晶圆代工
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RDL晶圆加工
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深硅刻蚀加工
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薄膜柔性电极加工
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微纳图形代工服务
微纳图形代工服务
Micro-nano Pattern Foundry Service
公司新闻
衍射光栅加工
Diffraction Grating Fabrication
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反射光栅 步进式光刻 500nm
光栅相位板 步进式光刻
硅光栅 激光直写
透射光栅 2um 接触式光刻
透射光栅 步进式光刻 180nm
透视光栅 反射光栅 加增透膜
公司新闻
光栅及超结构加工
Grating and Superstructure Fabrication
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案例1：Ta2O5-超结构
案例2：Ta2O5 超结构
案例3：Ta2O5 超结构
案例4：GaN超结构
案例5：GaN超结构
案例6：GaN超结构
公司新闻
氮化硅光波导
Silicon Nitride Optical Waveguide
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上包层PECVD生长SiO2 ，PECVD生长800nmSiO2
上包层PECVD生长SiO2 ，PECVD生长800nmSiO2，包覆性效果
上包层PECVD生长SiO2 ，PECVD生长800nmSiO2 宏观图
氮化硅（SiN）ICP 刻蚀成型，适配 200nm、400nm 规格刻蚀制程
氮化硅（SiN）ICP 刻蚀成型，刻蚀选择比稳定达 1.5，6 英寸晶圆刻蚀均匀性＜3%，一致性强
氮化硅（SiN）ICP 刻蚀成型，侧壁垂直度超 88°，形貌规整
公司新闻
铌酸锂光波导加工
LN-WG Fabrication
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LN MOD带宽60Ghz
All-Pass微环Q值：1e6
光栅耦合器损耗：8dB
定向耦合器
1×2MMI插损0.2dB
交叉波导损耗：0.02db
公司新闻
硅光波导
Silicon Optical Waveguide
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微环调制器-带宽：30Ghz
交叉波导损耗：0.028db per 个
加热电极：TiN热电极
电光开关消光比：45dB
All-Pass微环Q：10的5次方
1×2MMI插损：0.043dB per 端
公司新闻
混合键合晶圆代工
Ybrid Bonding Wafer Foundry
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键合结果展示
键合结果展示
键合结果展示
键合结果展示
键合结果展示
键合结果展示
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RDL晶圆加工
RDL Wafer Fabrication
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TSV
Tall Cu Post
Micro Bump
Hybrid bonding
Fan out
Al-bondpad
公司新闻
深硅刻蚀加工
Deep Silicon Etching Fabrication
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案例1 深硅刻蚀
案例2 深硅刻蚀
案例3 深硅刻蚀
案例4 深硅刻蚀
案例5 深硅刻蚀
案例6 深硅刻蚀
公司新闻
薄膜柔性电极加工
Thin Film Flexible Electrode Fabrication
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案例1.MEMS工艺柔性电极
案例2，叉指电极
案例3，叉指电极
案例4 MEMS工艺柔性电极
案例5，高分子薄膜电极
案例6，高分子薄膜电极
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技术概念
Technical Concept
光学轮廓测量
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白光干涉仪高精度检测激光划线深度 (Laser ...
精准管控钙钛矿 P1/P2/P3 划槽 (P1/...
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微纳激光加工
光栅及超结构加工能力介绍
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严控像素成型精度 (Pixel Forming ...
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