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氮化硅光波导
Silicon Nitride Optical Waveguide
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上包层PECVD生长SiO2 ,PECVD生长800nmSiO2
上包层PECVD生长SiO2 ,PECVD生长800nmSiO2,包覆性效果
上包层PECVD生长SiO2 ,PECVD生长800nmSiO2 宏观图
氮化硅(SiN)ICP 刻蚀成型,适配 200nm、400nm 规格刻蚀制程
氮化硅(SiN)ICP 刻蚀成型,刻蚀选择比稳定达 1.5,6 英寸晶圆刻蚀均匀性<3%,一致性强
氮化硅(SiN)ICP 刻蚀成型,侧壁垂直度超 88°,形貌规整
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铌酸锂光波导加工
LN-WG Fabrication
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LN MOD带宽60Ghz
All-Pass微环Q值:1e6
光栅耦合器损耗:8dB
定向耦合器
1×2MMI插损0.2dB
交叉波导损耗:0.02db
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硅光波导
Silicon Optical Waveguide
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微环调制器-带宽:30Ghz
交叉波导损耗:0.028db per 个
加热电极:TiN热电极
电光开关消光比:45dB
All-Pass微环Q:10的5次方
1×2MMI插损:0.043dB per 端
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