睿克光学依托成熟的微纳测量测试资源，深度联动高校及科研院所，专业承接半导体微纳加工项目。公司配备全套高端微纳加工设备，覆盖光刻、刻蚀、镀膜、氮化硅薄膜生长等全流程加工环节，可适配小片至12英寸晶圆，兼容多种基材，为客户提供专业氮化硅光波导加工及微纳加工整体解决方案。

一、设备支撑

公司配备全套高端微纳加工设备，涵盖光刻（含EVG、Canon等主流型号）、刻蚀、镀膜、氮化硅薄膜生长等全流程工艺，可适配小片至12英寸晶圆加工，兼容多种基材，为氮化硅光波导加工提供稳定、高效的设备保障，筑牢加工品质基础。

二、核心加工能力

公司具备专业氮化硅光波导全流程加工实力，可完整完成基材预处理、氮化硅薄膜生长、光刻、刻蚀、波导成型、抛光封装等全部工序，适配各类规格晶圆。加工过程中可精准把控氮化硅薄膜厚度、折射率及波导结构参数，打造低损耗、高稳定性的氮化硅光波导器件，配套完善的后处理工序，确保产品性能达标。

三、案例展示

案例1：上包层PECVD生长SiO2 ，PECVD生长800nmSiO2，包覆性效果

案例2：氮化硅（SiN）ICP 刻蚀成型，适配 200nm、400nm 规格刻蚀制程

案例3：氮化硅（SiN）ICP 刻蚀成型，侧壁垂直度超 88°，形貌规整

案例4：上包层PECVD生长SiO2 ，PECVD生长800nmSiO2 宏观图

案例5：氮化硅交叉光波导 损耗：0.028dB/个

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