摘要
睿克光学依托成熟的微纳测量测试(Micro-nano Measurement Test)资源，深耕半导体微纳加工(Semiconductor Micro-nano Processing)领域，与各大高校、科研院所深度合作。公司配备全套高端微纳加工设备，覆盖光刻(Photolithography)、刻蚀(Etching)、镀膜(Coating)全工艺流程，可适配小片至12英寸晶圆加工，兼容多类基材，可为客户提供一站式微纳图形(Micro-nano Pattern)定制加工解决方案，充分满足各类科研及产业化加工需求。
一、核心设备配置
搭载全流程高端微纳加工设备，覆盖微纳加工核心工艺环节。光刻设备配备EVG、Canon等国际主流型号，支持小片基材至12英寸晶圆(Wafer)规模化加工，适配玻璃、硅片、石英等多种常用基材，精度稳定、适配性广，为衍射光栅高精度代工提供硬核设备保障。
二、衍射光栅核心代工能力
公司具备全类型衍射光栅(Diffraction Grating)定制代工能力，可加工表面浮雕光栅(Surface Relief Grating)、体光栅(Volume Grating)等主流光栅产品。
依托电子束光刻(Electron Beam Lithography)、离子束刻蚀(Ion Beam Etching)、纳米压印(Nanoimprint Lithography)三大核心工艺，可精准把控光栅周期(Period)、占空比(Duty Cycle)、调制深度(Modulation Depth)等核心参数，加工的周期性微结构规整度高、一致性好。
同时配套提供基底处理(Substrate Treatment)、薄膜沉积(Thin Film Deposition)、精度校准等一站式后处理服务，全方位保障产品品质。产品广泛应用于光波导(Optical Waveguide)、光谱学(Spectroscopy)、激光器(Laser)等领域，可承接不同精度、规格的定制化代工需求。
三、经典加工案例
反射光栅(Reflective Grating)：步进式光刻，加工精度500nm
光栅相位板(Grating Phase Plate)：步进式光刻工艺加工
硅光栅(Silicon Grating)：激光直写工艺加工
透射光栅(Transmission Grating)：接触式光刻，周期2μm
透射光栅(Transmission Grating)：步进式光刻，加工精度180nm
透射/反射光栅：可定制介质增透膜(Dielectric Anti-reflection Film)镀膜处理
睿克光学——专注高端微纳图形、衍射光栅定制代工服务